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化学科卒業生の研究発表が優秀ポスター賞を受賞
化学科卒業生の研究発表が優秀ポスター賞を受賞
2024.10.10更新
学科レポート
[化学科]
2024年9月10日から12日にかけて名古屋大学で開催された日本セラミックス協会 第37回秋季シンポジウムにおいて、大学院理工学研究科 自然科学専攻 修士課程1年の谷口隆さん(化学科卒業生)が「優秀ポスター賞」を受賞しました。
谷口さんは、特定セッション「酸素酸塩材料科学と技術の分野横断的新展開」において、「水に分散可能なプロピレングリコール修飾シランを活用した水溶液プロセスによるNa₅YSi₄O₁₂の高純度合成」というタイトルでポスター発表を行いました。この本発表において谷口さんは、水溶液合成プロセスの一つであるアモルファス金属錯体法と、Si源としてクラスターレベルで水中に分散可能なプロピレングリコール修飾シラン(PGMS)を用い、ナトリウムイオン伝導体として期待されるNa₅YSi₄O₁₂(N5型)試料の合成を検討し、従来N5型試料の単相化に必要とされていたP添加を行わずに、仕込み組成のままで単相N5型試料の合成が可能であること、さらに、従来のP添加N5型試料とほぼ同等のイオン伝導性を示すことを報告しました。この成果は、今後のナトリウムイオン伝導体の開発に大きく貢献することが期待されます。
今回の受賞は、谷口さんがこれまでに取り組んできた上記の研究内容に加え、高いプレゼンテーション能力が評価されたものです。
なお、本研究は、本学ならびに、工学院大学の大倉利典教授・橋本英樹准教授・薗田雪衣さん(大学院生)、大阪大学の垣花眞人特任教授との共同研究です。
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谷口さんは、特定セッション「酸素酸塩材料科学と技術の分野横断的新展開」において、「水に分散可能なプロピレングリコール修飾シランを活用した水溶液プロセスによるNa₅YSi₄O₁₂の高純度合成」というタイトルでポスター発表を行いました。この本発表において谷口さんは、水溶液合成プロセスの一つであるアモルファス金属錯体法と、Si源としてクラスターレベルで水中に分散可能なプロピレングリコール修飾シラン(PGMS)を用い、ナトリウムイオン伝導体として期待されるNa₅YSi₄O₁₂(N5型)試料の合成を検討し、従来N5型試料の単相化に必要とされていたP添加を行わずに、仕込み組成のままで単相N5型試料の合成が可能であること、さらに、従来のP添加N5型試料とほぼ同等のイオン伝導性を示すことを報告しました。この成果は、今後のナトリウムイオン伝導体の開発に大きく貢献することが期待されます。
今回の受賞は、谷口さんがこれまでに取り組んできた上記の研究内容に加え、高いプレゼンテーション能力が評価されたものです。
なお、本研究は、本学ならびに、工学院大学の大倉利典教授・橋本英樹准教授・薗田雪衣さん(大学院生)、大阪大学の垣花眞人特任教授との共同研究です。